CMP工艺过程中需要多种耗材，如抛光垫(PAD)、抛光液(SLURRY)、钻石碟(DISK)、清洗刷(BRUSH)等。

CMP耗材具有技术壁垒高，客户认证时间长的特点。目前国产化率很低，GMC计划利用客户群和自身技术优势，致力于成为CMP全产业链供应商。

CMP材料生产基地已启动，生产多种CMP耗材。