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WET-全自动湿法去胶设备(GMC-S300A、GMC-S300B、GMC-S300C、GMC-S300D)
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    应用领域:
    半导体行业,前道工艺制成(IC集成电路)、后道先进封装,衬底材料(硅片、碳化硅、氮化镓等化合物),还适用于玻璃基板等领域。
    应用方式:
    Cassette-type & Cassetteless-type
    晶圆尺寸:
    100mm-300mm
    设备配置:

    全面支持SECS/GEM通讯协议

    设备自动化操作,干进干出(Marangoni dry 或spin dry)

    配备自动消防安全系统

    自动配液,补液,换酸

    温度,流量,浓度,压力,可控可调

    可选多loadport,根据产能配备

    全工艺段监控及传感器安全互锁

    全程在线技术支持

    主要品牌:
    主要parts选用国外一线品牌(KAIJO、IWAKI/Pillar、Entegris、CKD/SEBA、SIEMENS/OMRON)

     
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