WET-全自动RCA清洗设备 化学镍钯金设备 磨抛一体机 电镀设备 单片清洗设备 减薄机 WET-全自动湿法去胶设备 ASHER干法去胶机 涂胶显影机 供液系统 LOCAL SCRUBBER尾气处理 Heat Exchanger 晶圆环切设备
WET-全自动湿法去胶设备(GMC-S300A、GMC-S300B、GMC-S300C、GMC-S300D)
  • WET-全自动湿法去胶设备(GMC-S300A、GMC-S300B、GMC-S300C、GMC-S300D)返回列表
    应用领域:
    半导体行业,前道工艺制成(IC集成电路)、后道先进封装,衬底材料(硅片、碳化硅、氮化镓等化合物),还适用于玻璃基板等领域。

    应用方式:
    Cassette-type & Cassetteless-type

    晶圆尺寸:
    100mm-300mm

    设备配置:

    全面支持SECS/GEM通讯协议;

    设备自动化操作,干进干出(Marangoni dry 或spin dry;)

    配备自动消防安全系统;

    自动配液,补液,换酸;

    温度,流量,浓度,压力,可控可调;

    可选多loadport,根据产能配备;

    全工艺段监控及传感器安全互锁;

    全程在线技术支持。


    主要品牌:
    主要parts选用国外一线品牌(KAIJO、IWAKI/Pillar、Entegris、CKD/SEBA、SIEMENS/OMRON)

     

关于国际品牌设备翻新 自主新设备 半导体材料 工程技术服务