WET-全自动RCA清洗设备 化学镍钯金设备 磨抛一体机 电镀设备 单片清洗设备 减薄机 WET-全自动湿法去胶设备 ASHER干法去胶机 涂胶显影机 供液系统 LOCAL SCRUBBER尾气处理 Heat Exchanger 晶圆环切设备
晶圆再生片单片清洗设备 GMC-12RSC
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    设备特点:

    可适用于8寸或12寸晶圆清洗

    配有可设置温度氮气干燥

    多种药液高精度流量控制,温度控制

    可进行药液回收,增加药液利用率

    最多可配置8套清洗腔体

    可配置多种药液氢氟酸,臭氧水等


     

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