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减薄机(RG200)
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    设备特点

    适用于4/6/8/寸品圆or化合物半导体的磨削加工

    配置高功率气浮主轴,可应对碳化硅/氮化镓品圆的磨前加工

    最薄可将品圆加工至100um,同时保持TTV≤1.5um

    配置非接触式对中机构,降低夹持品圆破片风险

    SECS/GEM标准配置,方便客户导入ERP管控设备

    非接触式测量探头,可应对SOI衬底及bonding wafer加工,精确控制最终厚度

    软件自主团队开发,开放设备调试权限面向用户,客户放心维护设备
     
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