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WET-全自动Bench清洗设备
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    产品配置
    应用领域:
    半导体行业,前道工艺制成(IC集成电路)、后道先进封装,衬底材料(硅片、碳化硅、氮化镓等化合物),MicroLED,还适用于玻璃基板、陶瓷板等领域
    应用方式:
    Cassette-type & Cassetteless-type
    晶圆尺寸:
    100mm-300mm
    工艺流程:

    RCA Cleaner:Load-C/C-SPM-HQDR-DHF-QDR-SC1-QDR-SC2-QDR-Dryer- Unload

    Wet Etch Cleaner:Load-C/C-BOE/HF-OF-Dryer- Unload

    Solvent Remove Cleaner:Load-C/C-EKC1-EKC2-NMP-IPA-QDR-FR-Dryer- Unload

    SPM Remove Cleaner:Load-C/C-SPM-SPM-HQDR-SC1-QDR-Dryer- Unload
    设备配置:

    全面支持SECS/GEM  通讯协议

    干进干出全自动化作业,支持 Marangonidry/spin dry

    配备自动消防安全系统

    配液/补液/换酸全自动化,降低人工干预

    温度/流量/浓度/压力多参数精准可控可调

    多 Loadport 可选,灵活匹配不同产能需求

    全工艺段监控 + 传感器安全互锁,全程护航

    提供 7×24 小时在线技术支持,保障高效运行

    Particle Size@ 0.12μm≤20ea,Metal Contamination(Fe,Cr,Cu,Ti, Ni, Ta, etc. )≤1E10 atoms/cm2

    工艺参数
    颗粒物大小/Particle Size@ 0.16μm ≤20ea
    金属污染/Metal Contamination(Fe,Cr,Cu,Ti, Ni, Ta, etc. ) ≤1E10atoms/cm2
     
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